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本发明公开了一种多硫辛酸修饰的萘并吡喃类化合物，结构通式选自以下结构的一种：本发明提供的多硫辛酸修饰的萘并吡喃类化合物，用多个硫辛酸修饰，使得该类材料化合物除了能够具有传统萘并吡喃的优秀光致变色性能外，还使得目标产物具有可塑性，拉伸性，擦痕...
该专利属于上海甘田光学材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海甘田光学材料有限公司授权不得商用。

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