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本申请涉及氢提纯技术领域，公开了钯膜及其制备方法，其中，所述方法包括：对钯基膜进行辐照处理，以得到钯膜，其中，所述辐照处理为采用辐照离子对所述钯基膜的至少一个表面进行辐照，所述离子注入剂量为1×1017ions/cm2~8×1017ions...
该专利属于聚变新能（安徽）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过聚变新能（安徽）有限公司授权不得商用。

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