温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请实施例中提供一种半导体图形密度优化结构以及优化方法；半导体图形密度优化结构，包括：多个优化区域；每个优化区域包括多个测试区，每个测试区包括优化子区、填充子区；优化子区包括：半导体器件，半导体器件包括至少一器件有源层和至少一器件栅极层；...
该专利属于浙江创芯集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江创芯集成电路有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。