温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种低铟陶瓷靶材及其制备方法和应用，该低铟陶瓷靶材包括如下按质量百分比计算的组分：氧化铟的含量为50.2％～60.8％；氧化锌的含量为16.8％～25.3％；氧化锡的含量为18.0％～28.3％；金属氧化物0.10％～2.5％；...
该专利属于中山智隆新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山智隆新材料科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。