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本发明涉及制造金属氧化物、氮化物或碳化物或其混合物的涂层的方法，其中运行高功率脉冲磁控溅射，ＨＩＰＩＭＳ，在一个或多个靶（３）上放电，在高于２００Ｗｃｍ－２的峰值脉冲功率下，在氩气和反应性气体混合物（５，６）中，其中改进了沉积速率并且消除了...该专利属于山特维克知识产权股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山特维克知识产权股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及制造金属氧化物、氮化物或碳化物或其混合物的涂层的方法，其中运行高功率脉冲磁控溅射，ＨＩＰＩＭＳ，在一个或多个靶（３）上放电，在高于２００Ｗｃｍ－２的峰值脉冲功率下，在氩气和反应性气体混合物（５，６）中，其中改进了沉积速率并且消除了...