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本发明公开了一种掩膜基板及镀膜温度控制方法，属于半导体制造技术领域。本发明的一种掩膜基板，包括基板本体以及在基板本体表面依次形成的抗反射层、遮光层和保护层，其中，抗反射层为梯度复合膜，遮光层为纳米晶Cr，遮光层由HiPIMS溅射沉积，晶粒尺...
该专利属于安徽禾臣新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽禾臣新材料有限公司授权不得商用。

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