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本发明涉及通过用熔融的Ｚｎ金属还原ＳｉＣｌ↓［４］生产高纯硅的方法和设备。该方法的特征在于与溶解ＺｎＣｌ↓［２］的熔融盐接触发生所述还原反应。所述还原反应过程中产生的ＺｎＣｌ↓［２］然后溶解在所述熔融盐中而不是蒸发。其优势在于在所述还原反应...
该专利属于诺尔斯海德公司所有，仅供学习研究参考，未经过诺尔斯海德公司授权不得商用。

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