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本发明属于机器人光学元件力控抛光技术领域，公开了一种考虑面形精度及轨迹动态特性约束的伪随机抛光轨迹拐角光顺与力速规划方法及系统，通过随机搜索、去除死点、补充残点等方式将所有驻留点连接，生成伪随机轨迹。基于测得的面形数据点和给出的驻留点，通过...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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