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本发明提供用于改进金属掩模的作为较薄区域的图案区域到基板的附着性的基板处理设备和基板处理方法。根据本发明的一个实施方式，在用于使用磁体（００７）将金属掩模（００６）固定成与基板（００５）的待处理表面紧密接触的方法中，金属掩模（００６）具有厚...
该专利属于佳能安内华股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佳能安内华股份有限公司授权不得商用。

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