温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种添加共引发剂的金纳米团簇光刻胶及方法，属于微纳加工制造及光敏材料技术领域。该光刻胶包括以质量百分比含量计算的金纳米团簇0.01wt％‑30wt％、共引发剂1wt％‑10wt％、聚合活性单体95wt％‑70wt％以及有机溶剂0...
该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。