下载存储器结构及其形成方法的技术资料

文档序号:44979809

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种存储器结构及其形成方法,其中方法包括:在衬底上形成若干垫层结构以及位于垫层结构表面的有源层,各垫层结构沿第二方向与第一方向阵列排布,有源层覆盖垫层结构的顶部和垫层结构沿第一方向的侧壁,有源层暴露垫层结构沿第二方向的侧壁,有源层沿第一方向...
该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。