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本申请公开一种注气排卤气液界面深度的预测方法及相关设备,涉及盐穴注气排卤技术领域,所述方法包括:获取注气井内气体密度函数、注气井的第一井口压力和卤水液柱压力,气体密度函数表征注气井的气柱压力与地层温度之间的对应关系,卤水液柱压力表征卤水压力...该专利属于中国科学院武汉岩土力学研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院武汉岩土力学研究所授权不得商用。
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