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本发明涉及一种直流射流低浓度瓦斯无焰氧化装置及方法，包括用于实现低浓度瓦斯氧化的氧化室，以及设置在所述氧化室内的点火系统，所述氧化室一端设置有稳焰盘，所述氧化室的另一端开设有高温烟气出口，所述氧化室上沿所述稳焰盘的周向开设有直流射流喷口，所...
该专利属于中国矿业大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国矿业大学授权不得商用。

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