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本发明公开一种高温稳定的抗菌材料的制备方法，采取焙烧法得到g‑C3N4纳米材料，然后用聚六亚甲基双胍进行修饰，可确保聚六亚甲基双胍的分散性，由于聚六亚甲基双胍遇水容易潮解，然后采取原子层沉积在粉体表面生长3~5 nm的惰性材料保护层，该保护...
该专利属于国纳科技（昆山）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过国纳科技（昆山）有限公司授权不得商用。

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