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本发明公开了一种氧空位调制钇钡铜氧的方法，属于光电器件和计算材料学技术领域。本发明提供的一种氧空位调制钇钡铜氧的方法包括以下步骤：构建含氧空位缺陷的钇钡铜氧模型，分析获得氧空位对于钇钡铜氧的电子性质和光学性质的影响；根据钇钡铜氧的电子性质和...
该专利属于北京邮电大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京邮电大学授权不得商用。

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