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本发明提供一种高硼硅玻璃材料深加工刻花抛光工艺，包括如下步骤：S1：进行退火消除应力；S2：进行深加工刻花抛光；S3：进行抛光；S4：进行退火消除二次应力。本发明开创了高硼硅玻璃材质深加工刻花抛光工艺先河；填补了高硼硅材料深加工刻花抛光工艺...
该专利属于四川省宜宾环球集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川省宜宾环球集团有限公司授权不得商用。

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