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本发明公开了双面粗糙化铜箔的生产方法、双面粗糙化铜箔及生产设备，生产方法包括引入添加剂，调控铜离子的电化学沉积过程，形成一面平坦另一面呈山峰状的单面粗糙化电解铜箔；通过添加剂辅助的电化学沉积处理在单面光铜箔的光面形成双面粗糙化电解铜箔；通过...
该专利属于九江德福科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过九江德福科技股份有限公司授权不得商用。

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