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经由导入孔将等离子体生成室中的自由基供给到处理室，并且从自由基导入孔附近供给作为处理气体的ＨＦ气体。去除掺有杂质的ＩＶ族半导体的基板表面的自然氧化膜，并且具有等于湿清洁的良好的表面粗糙度。对表面处理后的基板沉积金属材料，并且进行通过热处理的...
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