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用于半导体膜的激光退火方法和退火装置制造方法及图纸
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下载用于半导体膜的激光退火方法和退火装置的技术资料
文档序号:4430365
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在激光退火中,不管激光输出中如何波动,都要确保结晶化的均匀性。在将脉冲激光照射到非单晶半导体膜上来施加退火的激光退火方法中,执行对脉冲激光的能量控制,以使激光的脉冲波形的最大峰值高度达到预定高度,并且该控制能够通过激光退火设备执行。该激光退...
该专利属于株式会社日本制钢所所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日本制钢所授权不得商用。
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