温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本技术公开一种APCVD设备的晶圆吸附加热装置，涉及常压化学沉积技术领域，包括壳体；壳体的底部敞口设置；真空吸附系统包括真空发生器；运动机构包括真空发生器固定环和导向环；导向环设置于真空发生器固定环的周围，真空发生器固定环设置于真空发生器的...
该专利属于宁波恒普技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波恒普技术股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。