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本申请公开了一种光刻机及光源阵列化调节方法，其中，该方法用于获取待光刻的目标光刻图案，根据目标光刻图案确定平行光分布形状控制算法，控制UV平行光源产生UV平行光，根据平行光分布形状控制算法控制阵列化空间光调制器对射入的UV平行光的分布形状进...
该专利属于北京大学深圳研究生院所有，仅供学习研究参考，未经过北京大学深圳研究生院授权不得商用。

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