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本发明公开了一种清洗液的应用。本发明的清洗液用于清洗刻蚀灰化后的半导体芯片；所述的清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.1‑30％的氧化剂、胺类有机物、氟化物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水，水补足余量，各组分质量分数之和为100％；所...
该专利属于上海新阳半导体材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新阳半导体材料股份有限公司授权不得商用。

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