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一种应用于膜结构的柔性应力传感器制造技术
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文档序号:43877314
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本技术公开了一种应用于膜结构的柔性应力传感器,包括聚二甲基硅氧烷柔性基底,所述聚二甲基硅氧烷柔性基底顶端开设有放置槽,所述放置槽顶端设有薄膜,所述放置槽内底端设有传感元件,所述传感元件两侧设有对称设置的叉指电极一和叉指电极二,所述叉指电极一...
该专利属于上海英斯泊物联网有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海英斯泊物联网有限公司授权不得商用。
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