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本发明提供了一种高承载高结合力α‑Ta/α‑Ta‑N涂层及其制备方法，涉及物理气相沉积领域。所述α‑Ta/α‑Ta‑N涂层包括打底层和交替层，交替层通过打底层与基体相连；所述交替层由α‑Ta层和α‑Ta‑N层交替构成，交替层的层数≥6；所述...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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