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本申请涉及一种用于金属加工工艺中的阵列式反应设备,包括:设备架、取放装置与移动机构;设备架安装有反应池;移动机构包括:支架、第一移动模组与第二移动模组;支架固定在设备架上;第一移动模组可活动设置在支架上;第二移动模组可活动设置在第一移动模组...该专利属于融科智汇(天津)新材料科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过融科智汇(天津)新材料科技有限公司授权不得商用。
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