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本发明是通过如下的技术方案来实现：适用于极低温和强磁场的成像系统，包括激光源、光路系统、样品台、成像系统、数据处理系统、可以将样品环境温度降低至20K以下的低温制冷系统以及可以在样品区域产生60T以下的强磁场系统，所述低温制冷系统包括直接接...
该专利属于艾博纳微纳米科技（江苏）有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾博纳微纳米科技（江苏）有限责任公司授权不得商用。

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