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本公开涉及一种清洁基站及清洁系统，该清洁基站用于对自移动设备进行清洁，包括基站本体、上水组件和排污组件；基站本体包括供用于对接清洁机器人的容纳腔，在容纳腔的底部设置有清洗槽，清洗槽被构造为用于供清洁机器人进行自清洁；上水组件设置在基站本体上...
该专利属于科沃斯机器人股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科沃斯机器人股份有限公司授权不得商用。

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