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本发明公开了一种光学元件表面形貌特征提取识别的方法，包括以下步骤：获取二维表面形貌信息；局部形貌特征识别与过滤；计算二维功率谱密度函数，径向平均获得一维功率谱密度函数；线性拟合双对数坐标下的一维功率谱密度函数，得到斜率p与截距q；根据拟合结...
该专利属于浙江同越光学科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江同越光学科技有限公司授权不得商用。

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