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本技术涉及均质腔技术领域，具体涉及一种用于流体稳定的高压均质核心元件，包括由均质腔体和碰撞阀体组成的高压均质腔，均质腔体上设置有用于物料进入和流出的进料管和出料管；均质腔体内设置有流通腔室，且流通腔室与进料管和出料管相连通，均质腔体位于流通...
该专利属于南昌大学所有，仅供学习研究参考，未经过南昌大学授权不得商用。

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