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本发明公开了一种无氢化硅的滤光膜及其设计、制备方法和应用。无氢化硅的滤光膜包括基底和覆盖在基底上的膜层，膜层包括堆叠的非晶硅吸收层、二氧化钛高折射率层和二氧化硅低折射率层。制备方法包括：采用磁控溅射法，在基底上镀制非晶硅吸收层、二氧化钛高折...
该专利属于浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心授权不得商用。

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