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本发明提供能够抑制起因于孔痕迹的外观不良的发生的圆偏振片的制造方法。该制造方法具备工序Sa、工序Sb、工序Sc以及工序Sd。在工序Sa中，准备依次具备第一保护膜(11)、第一起偏器保护层(12)、起偏器(13)、及具有贯通孔(14a)的第二...
该专利属于日东电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日东电工株式会社授权不得商用。

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