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一种楼面水平洞口处整体可提升过道平台制造技术
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文档序号:43281780
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本技术公开一种楼面水平洞口处整体可提升过道平台,包括固定设置在楼面水平洞口两侧的楼板上的直角支架,沿楼板的楼面水平洞口可提升的整体过道平台,所述整体过道平台包括下层架体和上层架体,所述下层架体设置在下层楼板的楼面水平洞口两侧的所述直角支架上...
该专利属于上海建工一建集团有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海建工一建集团有限公司授权不得商用。
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