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一种阿达玛变换干涉光谱成像方法，该方法包括以下步骤（１）成像于阿达玛模板表面上；（２）限制参与阿达玛变换编码的视场范围和过滤杂散光；（３）在垂直于光轴的方向上剪切成两个虚阿达玛模板，与阿达玛模板平行并且宽度方向一致；（４）产生干涉，与剪切方...
该专利属于中国科学院西安光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院西安光学精密机械研究所授权不得商用。

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