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本发明公开了一种高硬度、低摩擦多层梯度类金刚石薄膜，以单面抛光的硅片与YG8硬质合金为基底的材料，其特征在于：所述基底上沉积打底层后呈梯度依次沉积Ta连接层、TaN硬质层、Ta(C,N)过渡层与Ta‑DLC减摩层而构成，其中，打底层的材料为...
该专利属于化学与精细化工广东省实验室潮州分中心所有，仅供学习研究参考，未经过化学与精细化工广东省实验室潮州分中心授权不得商用。

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