温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种所述多工位曝光设备及曝光方法，包括基座和支撑架，其特征在于：其还包括多工位运动平台、曝光系统和对位系统，所述多工位运动平台设置于基座，所述支撑架位于所述基座中间位置，设置有曝光系统，所述多工位运动平台包括至少两组导轨及沿所述导...
该专利属于源卓微纳科技（苏州）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过源卓微纳科技（苏州）股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。