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本发明提供了一种检测刻蚀液过滤器的方法，包括在覆盖一层均匀氧化物薄膜的晶片上选定多个点；测量所述晶片在所述多个点处的初始厚度；对所述晶片进行过刻蚀处理；测量所述晶片在所述多个点处的残留厚度；计算各个点处的初始厚度与残留厚度的差值并计算这些差...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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