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体全息曲面波导及其制作方法和装置制造方法及图纸
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文档序号:42835784
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本方案公开了一种体全息曲面波导及其制作方法和装置。方法包括曝光步骤,用于干涉曝光位于耦出区和/或转折区的全息光敏材料层,曝光步骤包括:根据虚拟影像的像素分布,将参考光调整为对应第i像素的单像素参考光,将信号光调整为对应第i像素的单像素信号光...
该专利属于尼卡光学(天津)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过尼卡光学(天津)有限公司授权不得商用。
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