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本申请实施例提供了一种光刻胶滴胶量的监控方法，包括：预设一胶量阈值和完整喷涂胶量；对晶圆进行一次光刻胶喷涂处理，其中，光刻胶存在一定流量的回流；获取本次喷涂过程中流经光刻胶管路的稳定流量；将稳定流量的数值与胶量阈值进行比较；若稳定流量的数值...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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