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一种真空室制造技术
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文档序号:4267761
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本实用新型公开了一种真空室,属于真空装置,其结构包括真空室本体,所述的真空室本体的外壁上均匀设置有多个加强环,在真空室本体的两端分别设置有端盖,在右侧端盖的底部通过接管连接有法兰,在真空室本体中上部设置有与真空室本体相连通的两排管路接口,所...
该专利属于谢晓平所有,仅供学习研究参考,未经过谢晓平授权不得商用。
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