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本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶及制备方法，本发明制备的高韧改性环氧树脂具有更好的韧性，这种改性剂能够与环氧树脂发生有效的化学反应，增强分子链间的相互作用，从而显著提高材料的抗冲击、抗拉伸等机械性能...
该专利属于潍坊星泰克微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过潍坊星泰克微电子材料有限公司授权不得商用。

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