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本发明公开一种基于衍射条纹的相对定位方法，通过在已知位置放置光源和光栅片，在几个已知位置的基站处获取光源透过光栅片后形成的衍射条纹图案，已知位置的基站数量大于等于四个，通过分析基站位置变化和对应的条纹变化建立数学模型，则在需要定位的位置点获...
该专利属于桂林电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过桂林电子科技大学授权不得商用。

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