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描述了一种基板处理系统。该系统包括处理室和至少部分地设置在室内的基板支撑组件。该基板支撑组件可通过马达旋转，也允许电、冷却流体、气体和真空从处理室外部的非旋转源传送到处理室内部的旋转基板支撑组件。冷却流体和电连接用于升高或降低由基板支撑组件...
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