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本公开提供一种射线探测器及制备方法、电子设备，属于半导体技术领域，可解决制备成本高的问题。本公开射线探测器制备方法，其包括：在衬底的第一表面制备缓冲层；其中，衬底的第一表面包括第一区域和第二区域；在缓冲层背离衬底的表面制备共享层；对第一区域...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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