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本发明提供了一种用于尖端结构的低应力陶瓷涂层的制备方法，包括以下步骤：沉积陶瓷涂层，通过协同调控高功率脉冲磁控溅射技术的频率、脉宽和基底偏压的手段，使轰击工件基底的等离子体密度和能量呈现交替高低的趋势，进而使工件基底处陶瓷涂层的内应力呈现拉...该专利属于哈尔滨工业大学（深圳）（哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院）所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工业大学（深圳）（哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院）授权不得商用。