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本申请提供一种基材涂布过程的全局控制方法、装置及设备，涉及涂布控制技术领域，包括：根据干膜参数和目标干膜参数的差值对湿膜参数进行补偿，得到目标湿膜参数；基于不同目标湿膜参数与不同涂布控制参数的对应关系，确定目标湿膜参数对应的目标涂布控制参数...
该专利属于深圳市曼恩斯特科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市曼恩斯特科技股份有限公司授权不得商用。

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