下载一种应用于碳化硅芯片的非晶碳膜的制备方法与应用的技术资料

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本发明公开了一种应用于碳化硅芯片的非晶碳膜的制备方法与应用,该非晶碳膜的制备方法是采用磁控溅射技术在经离子注入后的碳化硅芯片表面制备非晶碳膜。本发明中,采用磁控溅射技术在经离子注入后的碳化硅芯片表面制备非晶碳膜,可以在碳化硅表面制备得到膜厚...
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