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本技术公开了一种清洗剂生产用反应釜，包括壳体，壳体内部设置有工作腔，所述壳体顶端设置有搅拌清洗机构，所述搅拌清洗机构包括两组电缸，两组电缸安装在壳体顶端两侧，两组电缸输出端设置有横板，横板底端转动设置有转轴，工作腔顶端设置有圆孔，转轴与圆孔...
该专利属于格润化学（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过格润化学（上海）有限公司授权不得商用。

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