温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本技术提供一种清洁基站、水箱、清洁装置和清洁系统，涉及清洁技术领域，清洁基站被用于对清洁装置的水箱进行清洁；清洁基站主要包括基站本体、排污组件和污物粉碎组件等组成部分。水箱可以放置于基站本体上进行排污，排污组件和污物粉碎组件均设于基站本体上...
该专利属于追觅创新科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过追觅创新科技（苏州）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。