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本技术公开了一种烘缸打磨抛光机构，包括基座，基座的顶部滑动连接有调节板；顶板的一侧设置有便于对烘缸外部打磨的抛光组件；基座的顶部设置有对抛光组件位置微调的调节组件；抛光组件包括焊接在顶板一侧的抛光架，抛光架远离顶板的一侧安装有第一传输轮。通...
该专利属于佛山市精伊特精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佛山市精伊特精密机械有限公司授权不得商用。

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