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本发明公开了一种X射线近场散斑成像系统的快速优化设计方法，其步骤包括：1)对于一待优化的成像系统，包括沿光路方向依次设置的X射线光源、散射体以及成像探测器，待测样品置于X射线光源与散射体之间或置于散射体与成像探测器之间；根据成像系统的功率谱...
该专利属于中国科学院高能物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院高能物理研究所授权不得商用。

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